＼包摂的な社会環境の形成へ／能力主義的なさりげない差別にさらされて、自閉スペクトラム症者はひっそりと孤独感を高める

【研究成果のポイント】

• おとなの自閉スペクトラム症者は、能力主義的なマイクロアグレッション（さりげない差別的言動）にさらされると、非自閉スペクトラム症の人に合わせて発達特性を抑え、同化行動を取るという社会的カモフラージュ行動を引き起こす心理的メカニズムを明らかに。
• 自閉スペクトラム症者の社会的カモフラージュは、抑うつ・不安・自殺リスクの増悪要因として知られているが、その背景にあるマイノリティ・ストレスを引き起こすメカニズムは十分に解明されていない。
• 周囲からの自閉スペクトラム症への被受容感を高める対人的環境の構築は、非自閉的多数派への過剰な同化行動を減少させることを通じて、神経多様性を尊重する包摂的な社会環境の形成につながることに期待。

　大阪大学大学院連合小児発達学研究科（千葉校）・千葉大学子どものこころの発達教育研究センターの大島郁葉教授（責任著者）、千葉大学子どものこころの発達教育研究センターの特任研究員である管思清（筆頭著者）、大阪大学大学院連合小児発達学研究科（浜松校）の土屋賢治特任教授（常勤）、信州大学の高橋史准教授、国立障害者リハビリテーションセンター研究所の和田真室長らの共同研究チームは、自閉スペクトラム症者が日常生活で経験する「できないのは努力不足」といった能力主義^※1に基づくさりげない差別的言動（能力主義的マイクロアグレッション^※2）が、孤独感や、多数派の社会的圧力に適応するために自閉特性を隠したり、本来の自分を抑えたりする社会的カモフラージュ^※3行動を引き起こす心理的メカニズムを明らかにしました。
　自閉スペクトラム症者の社会的カモフラージュは、抑うつ・不安・自殺リスクの増悪要因として知られていますが、その背景にあるマイノリティ・ストレスを引き起こすメカニズムは十分に解明されていません。
　本研究は、自閉症の若者330名（18～39歳；平均30歳）を対象にオンライン調査を行い、能力主義的マイクロアグレッション、自閉スペクトラムに対する受容感、孤独感、そしてカモフラージュについて測定しました。その結果、マイクロアグレッションが多いほど3つ（マスキング、補償、同化）のカモフラージュ行動が増加し、これが長期的にはメンタルヘルスの悪化や燃え尽き症候群のリスクを高める可能性があることが明らかになりました。
　これらの結果は、神経多様性を尊重する包摂的な社会環境の形成に向けた新たな手がかりを示すものです。
　本研究は、科学技術振興機構（JST）社会技術研究開発センター（RISTEX）による「オールマイノリティプロジェクト：発達障害者をはじめとするマイノリティが社会的孤立・孤独に陥らないための、認知行動療法を用いた社会ネットワークづくり」の一環として実施されました。
　本研究成果は、国際誌「Autism」に、12月7日（日）21時（日本時間）に公開されました。

【用語説明】
※1　能力主義
ableism。「能力のある人ほど優れている」という価値観に基づいて、人の価値を成果や努力で判断する社会的信念を指します。一見「努力すれば報われる」という前向きな考え方のように見えますが、実際には発達特性や障害による困難を「努力不足」として否定し、神経多様性のある人々に過度なプレッシャーを与えることがあります。
※2　マイクロアグレッション
microaggression。日常的な会話や態度の中に無自覚に表れる、さりげない差別的・偏見的言動を指します。発言者に悪意がなくても、受け手には否定や排除のメッセージとして伝わり、心理的負担を与えることがあります。
※3　社会的カモフラージュ
social camouflage。自閉特性を隠したり、周囲の社会的規範に合わせたりして適応しようとする行動を指します。主に3つの形態に分類されます：

• マスキング（masking）：自閉的行動や表出を抑えること。
• 補償（compensation）：社会的困難を補うために意図的な努力をすること。
• 同化（assimilation）：非自閉的多数派の社会規範に自分を合わせようとすること。

【特記事項】
本研究成果は、2025年12月7日（日）21時（日本時間）に国際誌「Autism」（オンライン）に掲載されました。
タイトル：“Understanding Autistic Identity Contingencies: The Chain Mediation Effect of Autism Acceptance and Loneliness in Ableist Microaggressions and Social Camouflage”
著者名：Siqing Guan, Fumito Takahashi, Makoto Wada, Hikari N Takashina, Midori Ueda, Yasuo Kawaguchi, Masamitsu Kawashima, Takeo Kato, Shinichiro Ogawa, Kenji Tsuchiya, Fumiyo Oshima
ＤＯＩ：https://doi.org/10.1177/13623613251389876